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CVD管式炉

管式炉

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添加时间:2016-07-27
产品详细信息

一、产品特点:

化学气相沉积(CVD)系统主要用于材料的气相生长制备,它是把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室,借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜工艺的制作设备。主要用于微电子方面的Si3N4,GaAs等薄膜,石墨烯、碳纳米材料的制备、半导体、光学材料、电池材料研发等领域,也可用于真空烧结、气氛保护烧结、材料还原等实验。

设备组成:化学气相沉积系统由管式炉、供气系统、真空机组组合而成。

 二、技术参数:

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基本配置:

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